iPhone 20周年采用全新设计！屏幕下Face ID和5大亮点一次看

苹果( Apple)预计在 2027 年迎来 iPhone 推出 20 周年，外界也好奇苹果是否会藉此机会，替 iPhone 带来近年最大幅度的外观改版。最新供应链消息指出，苹果正在测试全新的四边曲面屏幕设计，而且这项改变可能不会用在额外推出的 20 周年纪念版 iPhone，而是直接导入 iPhone 19 Pro 与 iPhone 19 Pro Max。

苹果20周年纪念iPhone可能不是独立机型

先前外界都普遍认为，苹果可能会像当年的 iPhone X 一样，另外推出一款具有特殊定位的 20 周年 iPhone，大多一度将 2027 年的新机暂称为 iPhone 20，认为苹果可能再次推出独立的周年纪念机型。

毕竟2017年恰逢iPhone推出10周年，苹果除了发布iPhone 8与iPhone 8 Plus，也同步推出采用OLED全屏、取消Home键并首度搭载Face ID的iPhone X，彻底改变了后续iPhone的设计方向。

不过分析师 Jeff Pu 提出不同说法，指出苹果并非准备额外推出一款特殊机型，而是计划直接替 2027 年的 iPhone Pro 与 Pro Max 换上全新设计，如今数码闲聊站也提出类似说法证实。

iPhone 20周年大改版：五大亮点升级

亮点1：四曲面无边框一体成型玻璃机身

中国爆料者数码闲聊站最新在微博透露，苹果新一代 iPhone Pro 机型正在测试四边曲面屏幕方案，目前已经进入量产线进行评估测试。

所谓的四边曲面屏幕，并非单纯将左右两边做成传统曲面屏幕，而是让面板四周都能朝机身边缘延伸，藉此进一步缩减边框存在感，让正面视觉更接近真正的全屏幕。

如果最终顺利量产，2027 年款 iPhone 外观将可能与目前 iPhone Pro 设计出现明显差异，也会成为苹果近年最重要的一次 iPhone 正面设计变革。

亮点2：屏幕下Face ID设计

自 iPhone X 引入刘海头、iPhone 14 Pro 演进为动态岛以来， Apple 迈向纯粹玻璃面板的最后一步，就是将 TrueDepth 传感器模组完全隐藏至 OLED 面板下方。

过去几代 iPhone 虽然持续缩小屏幕开孔，但 TrueDepth 原深感测相机与 Face ID 所需的部分感测元件，仍必须配置在屏幕开孔区域，也因此形成目前大家熟悉的动态岛。

依照目前消息，蘋果計畫將 Face ID 相關感測元件移到螢幕下方，正面可能只留下前置相機的單一挖孔，甚至不排除蘋果最終連前置相機都能進一步隱藏，讓 iPhone 正面完全沒有任何開孔。

不过相较之下，目前较多消息仍指向屏幕下 Face ID + 单挖孔前置摄像头较有可能会率先实现的方案。

一旦这项技术正式导入，也代表自 iPhone 14 Pro 首度登场的动态岛，在硬件造型上可能迎来重大改变。

亮点3：改用纯硅负极电池，机身更薄电量更大

为了在维持轻薄美型机身的前提下大幅升级续航力，Apple 预计在 20 周年机型改用全新的纯硅负极电池，硅负极材料的理论容量远高于传统石墨负极，可在相同电池体积下提升 15%～20% 的电量。

同时搭配 16 纳米低功耗 OLED 驱动芯片，在显示面板驱动 IC 制程全面升级，进一步降低屏幕日常运行发热量与耗电率。

亮点4：引入HBM高带宽内存，强化端侧生成式AI

随着 Apple Intelligence 的应用深度不断扩大，设备端运行大型语言模型对内存带宽的需求呈现爆发式增长。

iPhone 20 周年紀念款预计搭载全新 A21 Pro 晶片，并首度整合 HBM 高頻宽记忆体。这能提供数倍于传统 LPDDR5X 的資料傳輸速率，实现无延迟的即時语音生成、影像辨识与自动化 AI 运算。

亮点5：搭载LOFIC影像技术的感光元件

除了屏幕与性能外，影像系统也迎来了重大升级，iPhone 20周年版主镜头预计引入LOFIC(Lateral Overflow Integration Capacitor，横向溢出整合电容)技术，能有效防止强光环境下的过曝现象，如大太阳下拍摄或夜间高光车灯，大幅提高高光细节保留能力。

且还会采用暗光噪点控制，搭配全新感光元件架构，夜拍与逆光人像的色彩还原度将会明显优化。